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This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).
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Informations générales
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État actuel: PubliéeDate de publication: 2022-06Stade: Norme internationale publiée [60.60]
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Edition: 1
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Comité technique :ISO/TC 201/SC 4ICS :71.040.40
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