International Standard
ISO 23170:2022
Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
Reference number
ISO 23170:2022
Edición 1
2022-06
© ISO 2024
International Standard
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No disponible en español
Publicado (Edición 1, 2022)

ISO 23170:2022

Formato
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CHF 151
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Resumen

This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).

Informaciones generales

  • Estado
     : Publicado
    Fecha de publicación
     : 2022-06
    Etapa
    : Norma Internacional publicada [60.60]
  • Edición
     : 1
    Número de páginas
     : 29
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 201/SC 4
    ICS :
    71.040.40 
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