Résumé
PreviewISO 14706:2014 specifies a TXRF method for the measurement of the atomic surface density of elemental contamination on chemomechanically polished or epitaxial silicon wafer surfaces. The method is applicable to the following: elements of atomic number from 16 (S) to 92 (U); contamination elements with atomic surface densities from 1 × 1010 atoms/cm2 to 1 × 1014 atoms/cm2; contamination elements with atomic surface densities from 5 × 108 atoms/cm2 to 5 × 1012 atoms/cm2 using a VPD (vapour-phase decomposition) specimen preparation method.
-
État actuel: PubliéeDate de publication: 2014-08
-
Edition: 2
-
- ICS :
- 71.040.40 Méthodes d'analyse chimique
Acheter cette norme
| Format | Langue | |
|---|---|---|
| std 1 124 | PDF + ePub | |
| std 2 124 | Papier |
- CHF124
Vous avez une question?
Consulter notre FAQ
Horaires d’ouverture:
De lundi à vendredi - 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)
Suivez l'actualité de l'ISO
Inscrivez-vous à notre Newsletter (en anglais) pour suivre nos actualités, points de vue et informations sur nos produits.