Numéro de référence
ISO 16531:2013
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ISO 16531:2013
Analyse chimique des surfaces — Profilage d'épaisseur — Méthodes d'alignement du faisceau d'ions et la mesure associée de densité de courant ou de courant pour le profilage d'épaisseur en AES et XPS
Edition 1
2013-06
Annulée
Annulée (Edition 1, 2013)

Résumé

ISO 16531:2013 specifies methods for the alignment of the ion beam to ensure good depth resolution in sputter depth profiling and optimal cleaning of surfaces when using inert gas ions in Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy. These methods are of two types: one involves a Faraday cup to measure the ion current; the other involves imaging methods. The Faraday cup method also specifies the measurements of current density and current distributions in ion beams. The methods are applicable for ion guns with beams with a spot size below ~1 mm in diameter. The methods do not include depth resolution optimization.

Informations générales

  • État actuel
     : Annulée
    Date de publication
     : 2013-06
    Stade
    : Annulation de la Norme internationale [95.99]
  • Edition
     : 1
  • Comité technique :
    ISO/TC 201/SC 4
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS mises à jour

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