Norme internationale
ISO 12406:2010
Analyse chimique des surfaces — Spectrométrie de masse des ions secondaires — Dosage de l'arsenic dans le silicium par profilage d'épaisseur
Numéro de référence
ISO 12406:2010
ISO 12406:2010
Edition 1
2010-11
2010-11
© ISO 2024
Norme internationale
p
ISO 12406:2010
51418
Indisponible en français
Publiée
(Edition 1, 2010)
Cette norme a été révisée et confirmée pour la dernière fois en 2021.
Cette édition reste donc d’actualité.
Résumé
ISO 12406:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method using magnetic-sector or quadrupole mass spectrometers for depth profiling of arsenic in silicon, and using stylus profilometry or optical interferometry for depth calibration. This method is applicable to single-crystal, poly-crystal or amorphous silicon specimens with arsenic atomic concentrations between 1 x 1016 atoms/cm3 and 2,5 x 1021 atoms/cm3, and to crater depths of 50 nm or deeper.
Informations générales
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État actuel: PubliéeDate de publication: 2010-11Stade: Norme internationale confirmée [90.93]
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Edition: 1
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Comité technique :ISO/TC 201/SC 6ICS :71.040.40
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