Le dernier examen de cette norme date de 2021.
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Résumé
PreviewISO 12406:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method using magnetic-sector or quadrupole mass spectrometers for depth profiling of arsenic in silicon, and using stylus profilometry or optical interferometry for depth calibration. This method is applicable to single-crystal, poly-crystal or amorphous silicon specimens with arsenic atomic concentrations between 1 x 1016 atoms/cm3 and 2,5 x 1021 atoms/cm3, and to crater depths of 50 nm or deeper.
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État actuel: PubliéeDate de publication: 2010-11
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Edition: 1
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- ICS :
- 71.040.40 Méthodes d'analyse chimique
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