Reference number
ISO 17331:2004
ISO 17331:2004
© ISO 2024
International Standard
ISO 17331:2004
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Edition 1
2004-05
2004-05
ISO 17331:2004
32983
Publiée
(Edition 1, 2004)
Cette publication a été révisée et confirmée pour la dernière fois en 2019.
Cette édition reste donc d’actualité.
Cette norme comprend 1 amendement.
Résumé
ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.
It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.
Informations générales
-
État actuel: PubliéeDate de publication: 2004-05Stade: Norme internationale en cours d'examen systématique [90.20]
-
Edition: 1
-
Comité technique :ISO/TC 201ICS :71.040.40
- RSS mises à jour
Amendements
Des amendements sont publiés lorsqu’il s’avère que de nouveaux éléments doivent être ajoutés à un document normatif existant. Ils peuvent également inclure des corrections d’ordre rédactionnel ou technique à appliquer au document en vigueur.
Amendement 1
Edition 2010
ISO 17331:2004/Amd 1:2010
51406
CHF
18
Convertir les francs suisses (CHF) dans une autre devise
Cycle de vie
-
Actuellement
PubliéeISO 17331:2004
Les normes ISO sont réexaminées tous les cinq ans
Stade: 90.20 (En cours d'examen)-
00
Préliminaire
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10
Proposition
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20
Préparation
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30
Comité
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40
Enquête
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50
Approbation
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60
Publication
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90
Examen
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95
Annulation
Amendements
Proposent un contenu additionnel; disponibles à l’achat; non inclus dans le texte de la norme en vigueur.PubliéeISO 17331:2004/Amd 1:2010
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00
