ISO/AWI 25164
Physical vapor deposition coatings — Magnetron sputtering deposition of TiAlSiN thin films — Specification
Reference number
ISO/AWI 25164
Версия 1
© ISO 2024
Working draft
В стадии разработки
Проект данного международного стандарта был подготовлен рабочей группой.

Тезис

This document specifies the technical requirements for TiAlSiN thin films deposited by magnetron sputtering.

Общая информация

  • Текущий статус
     : В стадии разработки
    Этап
    : Регистрация новой рабочей темы в программе работ ТК/ПК [20.00]
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет :
    ISO/TC 107/SC 9
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития

9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. ТК
  5. ISO/TC 107/SC 9
  6. ISO/AWI 25164