ISO 14606:2015
w
ISO 14606:2015
63272

Тезис

ISO 14606:2015 gives guidance on the optimization of sputter-depth profiling parameters using appropriate single-layered and multilayered reference materials in order to achieve optimum depth resolution as a function of instrument settings in Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry.

ISO 14606:2015 is not intended to cover the use of special multilayered systems such as delta doped layers.


Общая информация 

  •  :  Withdrawn
     : 2015-12
  •  : 2
  •  : ISO/TC 201/SC 4 Depth profiling
  •  :
    71.040.40 Chemical analysis

Жизненный цикл


Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.