ISO 17331:2004
p
ISO 17331:2004
32983
недоступно на русском языке

ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.

It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.


Общая информация 

  •  :  Published
     : 2004-05
  •  : 1
  •  : ISO/TC 201 Surface chemical analysis
  •  :
    71.040.40 Chemical analysis

Приобрести данный стандарт

ru
Формат Язык
std 1 88 PDF
std 2 88 Бумажный
  • CHF88

Жизненный цикл


Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.